关于阴极发光仪的原理详解

根据激发源不同，晶体发光的原因有多种。任何物质吸收了外加能量，都会由于能量增加而处于不稳定状态，并有自然放出能量的趋势。

如果这些能量以光的形式放出，这就是发光现象，发光时间仅限于激发时间的发光称荧光，在激发停止后还继续发光的称为磷光；用强大的交变电场激发的称为电致发光，用可见光、红外光、紫外光、X光来激发的称为光致发光，由阴*射线管发出的加速高能电子束激发的称为阴*发光。

阴*发光也属于荧光的一种，因为只有在激发时，发光体才发光。此外还有热发光、化学能、高能粒子激发而发光等。

引起矿物发光的因素有以下几种情况：

1、矿物的基本成分引起发光。

2、由于类质同象元素引起发光。类质同象元素在晶体中为不稳定状态，当授能量给这种晶体时，晶体就会发光。

3、由于矿物的晶体结构变化而引起的发光，这主要是矿物受应力作用之后，使晶体格架发生变形而引起发光。

4、是矿物受到辐射源辐射之后，在可见光、紫外光下可以发光．或在加热条件下也可以发光。

阴*发光是由电子束轰击样品时产生的可见光，不同矿物由于含有不同的激活剂元素而产生不同的阴*发光，用来激发并产生阴*发光的装置叫做阴*发光装置，把这种阴*发光装置装在显微镜上则成为阴*发光显微镜。阴*发光显微镜可以广泛地应用于岩石、矿物的鉴定以及成岩作用的研究。

利用溅镀制程进行薄膜披覆有几项特点：

(1)金属、合金或绝缘物均可做成薄膜材料。

(2)再适当的设定条件下可将多元复杂的靶材制作出同一组成的薄膜。

(3)利用放电气氛中加入氧或其它的活性气体，可以制作靶材物质与气体分子的混合物或化合物。

(4)靶材输入电流及溅射时间可以控制，容易得到高精度的膜厚。

(5)较其它制程利于生产大面积的均一薄膜。

(6)溅射粒子几不受重力影响，靶材与基板位置可自由安排。

(7)基板与膜的附着强度是一般蒸镀膜的10倍以上，且由于溅射粒子带有高能量

阴*发光仪利用非破坏性的阴*发光技术，多数用于碳酸盐岩中的沉积岩以及碎硝岩等固体样品结构和组成的定性分析手段。同时不会对样品造成任何破坏。它具有换样快速方便，设计简单紧凑的特点。适用光学显微镜及数码成细系统联机使用，更适合现在的科研和教学实验要求。此外，该阴*发光仪的样品室对样品的制备范围广，并对于适合低温产生阴*光的岩石样品控温能力强。

在传统的领域及岩石学领域，业已证明阴*发光仪用于材料成分、二次结晶、共生、断裂填合、辐射环、化石和有机残留物中的骨骼结构、胶结过程的描述、自生长石和自生石英的鉴定、砂石等的胶结、矿物在分离过程中的辨认等研究中具有*高的价值。在宝石学中，阴*发光仪已用于宝石特性的识别（确定原产地或识别是否是人造宝石）以及人造宝石**程度鉴定。